园艺学报 ›› 2016, Vol. 43 ›› Issue (3): 462-472.doi: 10.16420/j.issn.0513-353x.2015-0808
周超凡,吴帼秀,李 婷,毕焕改,李清明,艾希珍*
ZHOU Chao-fan,WU Guo-xiu,LI Ting,BI Huan-gai,LI Qing-ming,and AI Xi-zhen*
摘要: 为了探讨外源硫化氢(H2S)对黄瓜耐冷性的调控机理,以‘津优3号’黄瓜为试材,叶面喷施H2S供体硫氢化钠(NaHS),以清水处理为对照,研究H2S对温度变化的响应,以及对黄瓜叶片光合作用和抗氧化系统的影响。结果表明:随着日光温室内气温降低和低温持续时间的延长,黄瓜叶片的H2S含量及D–/L–半胱氨酸脱巯基酶(CDes)活性先升高,后降低;光合速率(Pn)、气孔导度(Gs)、蒸腾速率(Tr)、核酮糖–1,5–二磷酸羧化酶(RuBPCase)活性,以及暗下光系统Ⅱ最大光化学效率(Fv/Fm)、光下实际光化学效率(ΦPSII)、电子传递效率(ETR)和光化学猝灭(qP)逐渐降低,胞间CO2浓度(Ci)、初始荧光(Fo)和非光化学猝灭(NPQ)趋于升高。低温胁迫可使MDA含量增加,超氧化物歧化酶(SOD)、过氧化物酶(POD)、过氧化氢酶(CAT)、抗坏血酸过氧化物酶(APX)和谷胱甘肽还原酶(GR)活性先升高后降低。与对照相比,NaHS处理叶片的H2S含量和CDes活性及Pn、Gs、Tr、RuBPCase活性、Fv/Fm、ΦPSII、ETR和qP明显升高,Ci、Fo和NPQ显著降低。低温下NaHS处理的MDA含量显著低于对照,而SOD、POD、CAT、APX和GR活性明显高于对照。NaHS处理的黄瓜产量比对照增加15.3%。可见CDes催化合成H2S受低温胁迫诱导,外源H2S可增强活性氧清除能力,减轻低温对黄瓜叶片光合机构的伤害。
中图分类号: