园艺学报 ›› 2011, Vol. 38 ›› Issue (09): 1675-1684.
宋阿琳1,李 萍1,2,李兆君1,梁永超1,*
SONG A-lin1,LI Ping1,2,LI Zhao-jun1,and LIANG Yong-chao1,*
摘要: 通过水培试验,采用前期以根系耐性指数为指标从12个白菜[Brassica campestris L. ssp. chinensis(L.)Makino]品种中筛选的两个对Cd耐性不同的白菜品种‘上海青’(Cd敏感型)和‘杭油冬’(Cd耐性)为试材,研究硅(Si,1.5 mmol · L-1)对镉(Cd,5.0 mg · L-1)胁迫下白菜生长、Cd含量、光合参数、叶片叶绿体超微结构的影响。结果表明:在Cd胁迫下,‘上海青’和‘杭油冬’与各自对照相比,地上部和地下部生物量显著降低了33.8%,30.6%和33.0%,12.0%,地上部和地下部Cd含量增加了55.2%,85.7%和73.2%,42.1%;叶片光合速率(Pn)、蒸腾速率(Tr)、气孔导度(Gs)和叶绿素含量均下降,细胞间隙二氧化碳浓度(Ci)增加;叶片的叶绿体结构明显受到损伤,叶绿体膨胀,叶绿体的基质片层结构破坏,片层方向紊乱。施硅后与单独Cd处理相比,两品种地上部和地下部生物量显著增加了24.9%,41.1%和31.9%,43.5%;地上部Cd含量显著降低了15.1%和26.3%,而地下部Cd含量显著增加了24.7%和33.6%;叶片的光合作用能力增强,而且叶片叶绿体超微结构变得完整。说明施硅减少了Cd从地下部向地上部的运输,提高了光合作用效率。这种缓解效应在耐Cd型品种‘杭油冬’中表现的效果更加显著。
中图分类号: