园艺学报 ›› 2004, Vol. 31 ›› Issue (6): 778-783.
蔡永萍1,2;李 玲2;李合生1;骆炳山1;林 毅2
Cai Yongping1 ,2; Li Ling2; Li Hesheng1; Luo Bingshan1; Lin Yi2
摘要: 以霍山石斛( Dendrobium huoshanense) 为材料, 研究其叶片的光合速率和叶绿素荧光参数的日变化。结果表明: 栽培林下, 霍山石斛光合速率较低, 光合速率日变化与光强日变化显著正相关, 林下石斛生长速度慢与生长环境光强低有关, 林下光强不是石斛生长的最适光强。自然光下, 石斛光合速率日变化呈V 型, 中午12 : 00 光合速率最低, 9 : 00~17 : 00 之间光合速率为负值, 只有早晚光强较低时有光合积累。叶绿素荧光参数日变化表明, 自然光下, 上午8 : 00 光强超过800 μmol·m-2·s -1 , 石斛叶片发生严重光抑制, 出现在光合速率为负值之前, 表明石斛不适宜在800 μmol·m-2·s -1以上的强光下生长。室内光强
处理试验表明在500 μmol·m-2·s -1光强时, 石斛叶片ETR 上升快, 光合电子传递速率增加, NPQ 增加, 能及时有效利用光能并耗散过剩的光能, 石斛有较好的光响应能力。
中图分类号: